排污许可证申请与核发技术规范 电子工业

近日，生态环境部发布《排污许可证申请与核发技术规范 电子工业》(HJ 1031-2019)(以下简称“电子技术规范”)的技术规范，全面推进排污排污许可制度改革。目前，电子行业排污许可证申请与核发功能已正式上线，相关行业排污单位可在全国排污许可证管理信息平台中正式申报排污许可证。
 

“电子技术规范”规定了电子工业排污单位排污许可证申请与核发的基本情况申报要求、许可排放限值确定、实际排放量核算、合规判定方法以及自行监测、环境管理台账与排污许可证执行报告等环境管理要求，提出了污染防治可行技术参考要求。
 

该标准适用于电子工业排污单位排放大气污染物、水污染物的排污许可管理。有电镀工序的电子工业排污单位，适用于本标准。电子工业排污单位中，执行《锅炉大气污染物排放标准》(GB 13271)的生产设施和排放口，适用于《排污许可证申请与核发技术规范锅炉》(HJ 953)。
 

一、产排污环节与污染因子的确定
 

电子行业子行业多、产品种类多、生产工序多、生产设施多、原辅材料多。本标准在充分考虑行业特征的基础上，聚焦国家重点管控污染物(挥发性有机物、氮氧化物、颗粒物，化学需氧量、氨氮)、 GB 8978中第一类污染物(六价铬、总铬、总镉、总镍、总银、总砷、总铅)以及其它的电子行业特征污染物(苯、甲苯、二甲苯、氟化物、氯化氢、氨、硫酸雾、氰化氢、甲醛;总磷、总铜、总锌、氟化物、总氰化物)等管控重点，对产生有机废气的喷漆、有机溶剂清洗、光刻、显影、涂胶、剥离、印刷等;产生酸性废气的电镀、湿法刻蚀、酸洗、化学气相沉积等;产生碱性废气的碱洗、显影等;产生含尘废气的开料、配料、钻孔等;产生金属和含氰废水的电镀;产生络合铜废水的化学镀铜;产生铜氨废水的碱性蚀刻;产生含氨废水的显影、清洗;产生含氟废水的清洗、湿法刻蚀;产生有机废水的显影、剥离、清洗;产生含磷废水的湿法刻蚀、清洗等产排污环节进行管控。
 

二、排污口差异化管理
 

“电子技术规范”将纳入《固定污染源排污许可分类管理名录》重点管理排污单位的废气排放口分为主要排放口和一般排放口两类。主要排放口包括计算机制造或者其他电子设备制造排污单位的喷漆生产线有机废气排放口、集成电路制造排污单位的有机废气排放口、显示器件制造排污单位的有机废气排放口，其他排放口均为一般排放口。废气排放口原则上不许可排放量。
 

电子工业排污单位废水排放口管理类型分为主要排放口和一般排放口两类，纳入《固定污染源排污许可分类管理名录》重点管理排污单位的废水总排放口和车间或者生产设施排放口为主要排放口，其他排污单位废水排放口为一般排放口。该标准要求对主要排放口实施排放浓度和排放量双管控，许可排放量的因子为化学需氧量、氨氮以及六价铬、总铬、总镍、总镉、总银、总砷、总铅。实行简化管理的排污单位废水排放口均为一般排放口，废水污染物仅许可排放浓度，不许可排放量。单独排入公共污水处理系统的生活污水仅说明去向。
 

三、自行监测差异化的要求
 

该标准提出了排污单位制定自行监测方案的要求，明确了监测点位、监测指标、监测频次
 

实行重点管理排污单位的喷漆生产线有机废气排放口、集成电路制造排污单位的有机废气排放口、显示器件制造排污单位的有机废气排放口的挥发性有机物需实施自动监测;重点管理排污单位的废水总排放口流量、氨氮、化学需氧量需实施自动监测。重点管理排污单位的其他污染项目以及一般排放口、简化管理的一般排放口按规定频次进行监测。未规定的其他监测因子指标按照HJ 819 等标准规范执行。电子工业排污单位自行监测技术指南发布后，从其规定。
 

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